| 磁控溅射沉积宽带减反膜 |
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| 引用本文： | 王明利,龚辉,范正修.磁控溅射沉积宽带减反膜[J].科学通报,1997,42(13):1381-1383. |
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| 作者姓名： | 王明利 龚辉 范正修 |
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| 作者单位： | 中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜技术中心 上海201800 |
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| 摘 要： | 早在1938年,美国就研制成功了多层减反膜,稍后在欧洲也取得了成功。减反膜在光学薄膜生产中处于非常重要的地位:照像物镜、眼镜片、望远镜、显微镜、测距仪等,几乎所有的光学仪器都采用了减反膜。目前减反膜的制备在技术上已经成熟,尤其是借助电子计算机,多层减反膜的膜系也变得十分完美。减反膜在制备方法上先后采用了电阻加热蒸发和电子枪蒸发法等。然而随着大批量减反膜的需求,提出了在室温下,大面积沉积减反膜的要求。由于磁控溅射能得到性能很稳定的光学薄膜,而且在室温下能进行大面积沉积,因此近年来受到广泛重视。本文介绍采用磁控溅射沉积多层宽带减反膜,研究了溅射系统、厚度监控、沉积
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| 关 键 词： | 宽带减反膜 磁控溅射沉积 光学薄膜 薄膜 |
| 收稿时间： | 1996-09-23 |
| 修稿时间： | 1997-03-03 |
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