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基于DII的半导体激光加工领域专利分析
引用本文:李彩霞,单美玉,王戴尊. 基于DII的半导体激光加工领域专利分析[J]. 科技情报开发与经济, 2015, 25(8)
作者姓名:李彩霞  单美玉  王戴尊
作者单位:吉林省科学技术信息研究所,吉林长春,130033
摘    要:利用DII数据库的专利信息资源,采用专利分析的研究方法,对1963—2014年收录的有关半导体激光加工领域的专利进行了分析,以了解全球半导体激光加工制造领域的研发趋势、国家布局、技术热点和主要竞争机构. 分析表明,半导体激光加工技术领域专利申请量近年始终保持增长的趋势;中国申请专利数量处在全球排名第三的位置,主要的竞争对手为日本和美国;主要的竞争机构几乎被日本所垄断;主要的技术领域集中在半导体器件、焊接和利用受激发的器件等方面.

关 键 词:专利分析  半导体激光器  激光加工  德温特

Analysis on the Patents of the Field of Semiconductor Laser Processing Technology Based on DII
LI Caixia,SHAN Meiyu,WANG Daizun. Analysis on the Patents of the Field of Semiconductor Laser Processing Technology Based on DII[J]. Sci-Tech Information Development & Economy, 2015, 25(8)
Authors:LI Caixia  SHAN Meiyu  WANG Daizun
Abstract:
Keywords:patent analysis  semiconductor laser  laser processing  Derwent
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