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基于熵增原理抑制磁流变抛光中高频误差
引用本文:戴一帆,石峰,彭小强,李圣怡.基于熵增原理抑制磁流变抛光中高频误差[J].中国科学(E辑),2009,39(10):1663-1669.
作者姓名:戴一帆  石峰  彭小强  李圣怡
作者单位:国防科技大学机电工程与自动化学院机电系;
基金项目:国家自然科学基金(批准号:50775215,50875256)资助项目
摘    要:采用信息熵作为去除函数驻留点随机分布的测度,基于熵增理论设计了局部随机加工路径,有效抑制磁流变抛光的中高频误差.在自研的KDMRF-1000F磁流变抛光机床上进行实验研究,局部随机路径加工区域的中高频误差明显小于光栅扫描路径加工区域.直径为98mm的平面镜,一次迭代修形(7.46min),面形误差峰谷值提高到0.0622(2=632.8nm),均方根误差提高到0.010λ,且未见明显的尖峰状中高频误差.实验结果表明,基于熵增原理设计的局部随机路径能有效地抑制磁流变加工的中高频误差.

关 键 词:磁流变抛光  最大熵法  局部随机路径  中高频误差
收稿时间:2009-04-22
修稿时间:2009-06-06
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