低剂量软X射线对人外周血淋巴细胞DNA合成能力的影响

本试验用人血离体淋巴细胞培养和~3H 同位素示踪技术,探讨了软 X 射线对淋巴细胞 DNA合成能力的影响。试验表明,在22伦至440伦的剂量范围内,软 X 射线照射都可导致淋巴细胞 DNA 合成能力的下降。培养前照射和培养后48小时照射,细胞的 DNA 合成受抑率不一。结果表明,培养前(细胞密度较高)照射,细胞对射线的敏感度要高于培养后照射(~3H-TdR(~3H-胸腺嘧啶核苷)平均相对掺入率分别降为40. 58～70. 04%:82. 73～87. 32%);已启动分裂的、培养48小时后受照射的细胞,比未启动分裂的、培养24小时受照的细胞要敏感一些(~3H-TdR 平均相对掺入率分别为67. 52%:82. 88%)。受软 X 射线照射的淋巴细胞 DNA 合成能力的受抑率与前人用~(60) Co-γ射线和硬 X 射线相比,前者略高于后者,在低剂量范围内,R.B.E.约为1. 1～1. 3。