酸性溶液中2-四氢噻唑硫酮等添加剂对铜电沉积过程的影响

本工作用伏安法和交流阻抗法,研究了2-四氢噻唑硫酮(H_1),苯基聚二硫丙烷磺酸钠(S_1)和氯离子在铜电极上的电化学行为。结果表明,上述添加剂在铜电极上都表现吸附作用,吸附电位区相当宽,H_1的吸附性比S_1强,吸附是扩散控制的,且显著地阻他铜离子放电过程,S_1和氯离子可与铜离子络合。此外,还讨论添加剂对铜电沉积过程的影响。