| 化学气相沉积耐磨涂层TiN的温度选择 |
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| 引用本文： | 张林荣,张福林.化学气相沉积耐磨涂层TiN的温度选择[J].北京科技大学学报,1989,11(1):69-73. |
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| 作者姓名： | 张林荣 张福林 |
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| 作者单位： | 北京科技大学稀冶物化教研室
(张林荣)，北京科技大学稀冶物化教研室(张福林) |
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| 摘 要： | 化学气相沉积(CVD)TiN涂层在模具上涂复3～10μm可使模具寿命提高3～4倍。本文研究指出:沉积温度对沉积速率、涂层硬度及对基体Cr12MoV硬度和尺寸都有影响。在950～1000℃间可以得到接近化学计量的TiN,其硬度Hv(1)≈20000N/mm~2,基体尺寸变化在万分之五以内。
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| 关 键 词： | 涂层 TiN 模具 气相沉积 氮化钛 |
Selection of Temperature for Chemical Vapor Deposition of Wear-Resistance TiN Films |
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| Zhang Linrong Zhang Fulin.Selection of Temperature for Chemical Vapor Deposition of Wear-Resistance TiN Films[J].Journal of University of Science and Technology Beijing,1989,11(1):69-73. |
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| Authors: | Zhang Linrong Zhang Fulin |
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| Institution: | Zhang Linrong Zhang Fulin |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | coating die TiN film CVD |
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