Cu／Ni多层膜的电阻与位错

采和电桥及Ｘ射线衍射线形分析法研究磁控溅射Ｃｕ／Ｎｉ多层膜及Ｎｉ单层厚度均为５ｎｍ）的室温电阻率平均位错密度随对层层数的变化规律。