首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

内氧化型渗碳(CD渗碳)的应用及机理
作者姓名:郝士明
作者单位:东北工学院金属材料系金属学教研室
摘    要:钢的内氧化型渗碳(CD渗碳)的机理和动力学类似于合佥的内氧化反应。本文着重介绍了铁素体和奥氏体基体的CD渗碳,以及δ-珠光体的形成反应,指出,这些反应均为由碳的体积扩散所控制的过程。文中还讨论了应用等活度线求渗碳层表面最高碳浓度的方法。而且以奥氏体基体的渗碳为例,说明了CD渗碳层的组织和性能特点,以及在工业生产上的实际意义。

本文献已被 CNKI 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号