|
|||||
|
|
| 用直流磁控溅射淀积司太立合金薄膜 | |
| 作者姓名： | 申勇 黄宁康 王明华 |
| 摘 要： | 七十年代以来,磁控溅射已经在科研和生产上得到了广泛应用.本工作试图利用这一先进技术在各种基体材料上制备一层司太立合金薄膜,提高材料的抗水蚀性能.磁控溅射装置实验在我们自行设计的直流磁控溅射装置上进行.磁控靶为长条形,靶长250mm、宽70mm,其结构剖面如图1所示.内外磁极由多个25 x10 x8mm的钐钴小磁钢组成.这种磁钢磁能密度大,剩磁强(Br=5000～10000GS),采用它可以使 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |