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| 铜镍在P—Si上的激光辅助电沉积 | |
| 作者姓名： | 游阳明 张国庆 |
| 摘 要： | 研究了Ｐ－Ｓｉ上铜镍由其硫酸盐中的电沉积过程。不同的半导体表面预处理条件对沉积电流有非常显著的影响；确定了制备选择性铜镍镀层的实验条件；利用能级图分析了沉积的价带过程和导带过程。 |
| 关 键 词： | 激光 电沉积 铜 镍 磷－硅 基底 |
| 本文献已被 维普 等数据库收录！ | |
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