B~ 注入Si片的均匀性及重复性的测定——国产J5960型离子注入机基本工艺性能测试报告(之一)

在半导体器件生产中,尤其是大规模集成电路,为了提高其性能、增加可靠性和稳定性,特别是提高成品率,要求在大面积内对半导体衬底进行高度均匀的掺杂且重复性好,而离子注入工艺正是具有这个突出的优点。一台好的离子注入机,均匀性和重复性是它的重要指标之一。为此,我们用国产J5960型离子注入机,对硼离子注入Si片的均匀性和重复性进行了试验测定工作。现简要报告于后。