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Ge,Si的形变势及其应变层异质结的带阶
引用本文:李书平,王仁智.Ge,Si的形变势及其应变层异质结的带阶[J].厦门大学学报(自然科学版),1998,37(3):351-356.
作者姓名:李书平  王仁智
作者单位:厦门大学物理学系
基金项目:国家和福建省自然科学基金,国家教委博士点基金
摘    要:采用从头赝势能带计算方法研究了(001)界面应变对Ge、Si能带结构、平均键能和带阶参数的影响.计算了相应的形变势,并利用形变势的研究结果,采用平均键能方法计算了Ge/Si应变层异质结在不同生长厚度h(或平行晶格常数a∥)情况下的价带带阶和导带带阶.

关 键 词:异质结,平均键能方法,带偏移,形变势

Deformation Potentials and Band Offset of Ge, Si Strained layer Heterojunction
Li Shuping,Wang Renzhi,Zheng Yongmei,Cai Shuhui.Deformation Potentials and Band Offset of Ge, Si Strained layer Heterojunction[J].Journal of Xiamen University(Natural Science),1998,37(3):351-356.
Authors:Li Shuping  Wang Renzhi  Zheng Yongmei  Cai Shuhui
Abstract:
Keywords:Heterojunction    Average  bond  energy theory    Band offset    Deformation potential
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