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TiO2/SiO2复合粉体的简易研磨法制备
作者姓名:李志林  程丽丽
作者单位:河北大学化学与环境科学学院,保定,071002
摘    要:以硫酸氧钛为钛源,以硅酸钠为硅源,采用简易研磨法制备了比纯TiO2光催化剂表面活性强,光催化性能高的TiO2∕SiO2复合物。借助X射线衍射(XRD),差热分析(TG-DTA)和Fourier变换红外光谱(FTIR)对该复合物进行表征,以活性大红的光催化降解反应对复合物的光催化活性进行评价。制备复合物的最佳条件:硫酸氧钛与硅酸钠的质量比为1:1,煅烧温度为500℃。对于初始质量浓度为50㎎/L的20mL活性大红溶液,当复合物加入量为0.10g时,紫外光下降解60min后活性大红降解率为98.3%,相同条件下TiO2对活性大红的降解率为96.5%。廉价的原料,简易的制备方法,极高的光催化降解效率,可以降低废水处理成本。

关 键 词:二氧化钛  二氧化硅  研磨法  硫酸氧钛  硅酸钠
收稿时间:2011-10-18
修稿时间:2011-10-26
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