| 气相法生长金刚石薄膜过程和热解CVD实验 |
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| 引用本文： | 张志明 丁正明. 气相法生长金刚石薄膜过程和热解CVD实验[J]. 上海交通大学学报, 1990, 24(2): 73-80 |
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| 作者姓名： | 张志明 丁正明 |
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| 作者单位： | 上海交通大学应用化学系、理化中心(张志明，丁正明，万锃，庄志诚，洪爱玲)，上海交通大学应用化学系、理化中心(李胜华) |
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| 基金项目： | 国家高技术和上海市自然科学基金资助课题 |
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| 摘 要： | 本文简述了气相法生长金刚石薄膜的基本过程,论述了反应气体系统及碳源浓度、激活源、基片温度和预处理等参数对金刚石结构和性能的重要影响.
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| 关 键 词： | 金刚石薄膜 热解CVD 薄膜 气相法 生长 |
Growth of Diamond Thin Films by Gas Phase and Experaments by Thermal CVD |
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| Zhang Zhiming Ding Zhengming Wan Zheng Zhuang Zhicheng Hong Ailing Li Shenghua. Growth of Diamond Thin Films by Gas Phase and Experaments by Thermal CVD[J]. Journal of Shanghai Jiaotong University, 1990, 24(2): 73-80 |
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| Authors: | Zhang Zhiming Ding Zhengming Wan Zheng Zhuang Zhicheng Hong Ailing Li Shenghua |
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| Affiliation: | Zhang Zhiming Ding Zhengming Wan Zheng Zhuang Zhicheng Hong Ailing Li Shenghua |
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| Abstract: | This paper reports the fundamental process of the diamond thinfilms synthesized by gas phase.It deals with the significant influences of thereactive gas systems,carbon concentrations,activated sources,substratetemperatures and pre-treatment on the properties and structures of the films. |
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| Keywords: | diamond thin film gas phase growth thermal chemical vapor deposition |
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