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低温化学镀镍磷合金工艺的研究
引用本文:郭慧林 胡信国. 低温化学镀镍磷合金工艺的研究[J]. 西北大学学报(自然科学版), 1996, 26(4): 307-310
作者姓名:郭慧林 胡信国
作者单位:西安西北大学化学系,哈尔滨工业大学应用化学系
摘    要:提出了一种低温化学镀镍工艺,可在70℃下进行(常规工艺操作温度为85~95℃),槽液稳定,沉积达率不小于10μm/h,使用寿命达5个周期以上,并得到磷的质量分数为0.02~0.05的Ni-P合金镀层。H2PO2-和Ni2+影响沉积速率的反应级数分别为0.3和0.34,H2PO2-的平均利用效率为0.76。

关 键 词:化学镀;镍磷合金;镀层

A Study on the Technology of Electroless NickelPlating at Low Temperature
Guo Huilin,Hu Xin''guo,Su Guipin. A Study on the Technology of Electroless NickelPlating at Low Temperature[J]. Journal of Northwest University(Natural Science Edition), 1996, 26(4): 307-310
Authors:Guo Huilin  Hu Xin''guo  Su Guipin
Abstract:
Keywords:electroless plating  Ni-P alloy  coating  
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