三水平最小低阶投影均匀设计的设计效率 |
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作者姓名: | 柏启明 黄兴友 薛慧丽 李洪毅 |
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作者单位: | (吉首大学数学与统计学院,湖南 吉首 416000) |
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基金项目: | 国家自然科学基金资助项目(12161040,11961027);湖南省自然科学基金资助项目(2020JJ4497,2021JJ30550);湖南省教育厅重点项目(19A403);湖南省研究生科研创新项目(CX20211054);吉首大学科研项目(JDY21009,JDY20057) |
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摘 要: | 为了研究三水平设计投影均匀性与设计效率的关系,在中心化L2-偏差度量下,建立了强度为2的三水平正交设计的均匀性模式与设计效率的解析联系,对于强度为3的三水平正交表,最小低阶投影均匀性准则与设计效率准则等价.对于三水平设计,获得了均匀性模式紧的下界,该下界可以衡量设计是否为最小低阶投影均匀设计.
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关 键 词: | 最小低阶投影均匀设计 设计效率 正交设计 中心化L2-偏差 下界 |
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