| 微光学阵列元件离子束刻蚀制作的分析与讨论 |
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| 引用本文： | 张新宇,易新建,何苗,赵兴荣.微光学阵列元件离子束刻蚀制作的分析与讨论[J].华中科技大学学报(自然科学版),1998(Z2). |
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| 作者姓名： | 张新宇 易新建 何苗 赵兴荣 |
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| 作者单位： | 华中理工大学光电子工程系 |
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| 摘 要： | 阐述了利用离子束刻蚀技术制作微光学阵列元件的工艺条件．研究和实验结果表明，通过光刻热熔法制作的光致抗蚀剂掩模图形经具有不同能量的离子束刻蚀后可以有效地实现向衬底材料上所作的选择性转移，所作的理论分析结果为非球面微光学阵列元件的制作提供了一条可行的技术途径．
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| 关 键 词： | 离子束刻蚀 微光学阵列元件 制作 |
Micro optics Arrays Device Etched by Ar Ion Beam |
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| Zhang Xinyu,Yi Xinjian,He Miao,Zhao Xingrong.Micro optics Arrays Device Etched by Ar Ion Beam[J].JOURNAL OF HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY.NATURE SCIENCE,1998(Z2). |
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| Authors: | Zhang Xinyu Yi Xinjian He Miao Zhao Xingrong |
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| Institution: | Zhang Xinyu Yi Xinjian He Miao Zhao Xingrong |
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| Abstract: | The fabricating conditions for micro optics device are discussed etched by Ar ion beam. The results of experiment and theoretical analysis show that the photoresist pattern prepared by the photolighography and melting method can be transformed into the substrate effectively by ion beam milling with different etching energy. The theoretical results can be applied to fabricating non shape surface micro optics arrays device. |
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| Keywords: | ion beam etching micro optics array device fabricat |
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