| 〈101〉取向织构氮化铝薄膜的制备研究 |
| |
| 引用本文： | 张晓光,刘晖. 〈101〉取向织构氮化铝薄膜的制备研究[J]. 天津理工大学学报, 2004, 20(4) |
| |
| 作者姓名： | 张晓光 刘晖 |
| |
| 作者单位： | 天津理工大学,自动化与能源工程学院,天津,300191 |
| |
| 摘 要： | 采用直流溅射法在室温条件下制备〈101〉取向织构的氮化铝(AlN)多晶薄膜,研究实验条件(溅射功率、氩气和氮气流量等)对氮化铝薄膜的成膜速率、结构、颗粒度、应力等性能的影响,得到了较佳的制备条件.本研究结果具有成膜温度低、溅射功率小、沉积速率高和薄膜高度织构等优点,对高性能氮化铝薄膜的制备及应用研究具有一定的参考价值.
|
| 关 键 词： | 氮化铝 织构 磁控溅射 |
Preparation of 〈101〉 oriented AIN films |
| |
| ZHANG Xiao-guang,LIU Hui. Preparation of 〈101〉 oriented AIN films[J]. Journal of Tianjin University of Technology, 2004, 20(4) |
| |
| Authors: | ZHANG Xiao-guang LIU Hui |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | aluminum nitride texture magnetron-sputtering |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
|
