| 基片温度对CNx薄膜性能和结构的影响 |
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| 引用本文： | 柳翠,李东春,于栋利,何巨龙,田永君,刘世民.基片温度对CNx薄膜性能和结构的影响[J].燕山大学学报,2002,26(1):71-74,94. |
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| 作者姓名： | 柳翠 李东春 于栋利 何巨龙 田永君 刘世民 |
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| 作者单位： | 燕山大学材料科学与工程学院,秦皇岛,066004 |
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| 摘 要： | 采用离子束溅法，在单晶Si（100）基片上制备CNx薄膜。研究了基片温度对CNx薄膜性能和结构的影响。结果表明：随着基片温度的提高，薄膜生长致密，表面光滑；薄膜硬度逐渐提高，但温度升高到200℃后，硬度增加缓慢。同时，基片温度升高使薄膜中的N含量增加，促进C－N化合物结晶。X射线衍射结果证明在850℃时，薄膜中产生α－C3N4晶相。
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| 关 键 词： | CNx薄膜 离子束溅射 温度 性能 结构 单晶硅 |
Effect of Substrate Temperature on the Properties and Structures of CNx Films |
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| Liu Cui,Li Dongchun,Yu Dongli,He Julong,Tian Yongjun,Liu Shimin.Effect of Substrate Temperature on the Properties and Structures of CNx Films[J].Journal of Yanshan University,2002,26(1):71-74,94. |
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| Authors: | Liu Cui Li Dongchun Yu Dongli He Julong Tian Yongjun Liu Shimin |
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| Keywords: | CN films ion beam sputtering temperature |
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