| 压力促进氧化石墨烯水热还原反应的机理 |
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| 引用本文： | 常艳丽,陈胜,曹傲能. 压力促进氧化石墨烯水热还原反应的机理[J]. 上海大学学报(自然科学版), 2010, 16(6): 577-581. DOI: 10.3969/j.issn.1007-2861.2010.06.005 |
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| 作者姓名： | 常艳丽 陈胜 曹傲能 |
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| 作者单位： | 上海大学,环境与化学工程学院,纳米化学与生物学研究所,上海200444 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划（973计划）资助项目（2009CB930200）；上海市重点学科建设资助项目（S30109） |
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| 摘 要： | 研究水相中氧化石墨烯(graphene oxide,GO)在敞口容器和密闭容器中的水热还原过程,发现氧化石墨烯还原后更容易通过超声破碎成小片.原子力显微镜(atomic force microscopy,AFM)和动态光散射(dynamic lightscattering,DLS)结果表明,密闭容器中产生的压力不仅能促进氧化石墨烯的还原,而且可使其在超声处理后破碎形成尺寸更小、分布更窄、适合生物医药应用的石墨烯纳米小片.红外(infrared,IR)光谱结果表明,加压和常压下还原的氧化石墨烯的C=O伸缩振动峰和O—H弯曲振动峰没有明显区别,但加压下环氧键C—O—C伸缩振动峰明显减弱.据此推测,氧化石墨烯水热还原的机理是压力促进环氧键转化为C—OH,这一开环反应为水分子参加加成反应,加压有利于反应的进行.开环反应产物进一步以CO_2形式脱除而形成缺陷,氧化石墨烯在超声处理后沿缺陷断裂,从而得到尺寸更小的石墨烯片.
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| 关 键 词： | 氧化石墨烯；水热还原；压力；环氧基 |
| 收稿时间： | 2010-05-31 |
Mechanism of Pressure-Accelerated Solvothermal Reduction of Graphene Oxide |
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| CHANG Yan-li,CHEN Sheng,CAO Ao-neng. Mechanism of Pressure-Accelerated Solvothermal Reduction of Graphene Oxide[J]. Journal of Shanghai University(Natural Science), 2010, 16(6): 577-581. DOI: 10.3969/j.issn.1007-2861.2010.06.005 |
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| Authors: | CHANG Yan-li CHEN Sheng CAO Ao-neng |
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