膜厚对NiO/NiFe/Cu/NiFe磁阻效应的影响 |
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作者姓名: | 吴丹丹 卢志红 |
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作者单位: | [1]华中理工大学电子科学与技术系 [2]中国科学院上海冶金研究所 |
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摘 要: | 用射频磁控溅射方法制备多层膜,研究了双层膜NiO/NiFe的矫顽力HC和交换耦合场Hex与反铁磁层NiO,铁磁层NiFe厚度的关系。结果表明:NiO厚度为70nm时,Hex最大;Hc随NiO厚度增大而增大。当NiFe厚度增加时,Hex近似线性减小;而Hc则随NiFe厚度增大开始有缓慢增加,然后才减小。
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关 键 词: | 磁阻效应 膜厚 多层膜 氧化镍 铜 镍铁合金 |
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