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含氧空位立方HfO2电子结构和光学性质的第一性原理研究
引用本文:闫 锋,刘正堂,刘其军. 含氧空位立方HfO2电子结构和光学性质的第一性原理研究[J]. 科学技术与工程, 2017, 17(16)
作者姓名:闫 锋  刘正堂  刘其军
作者单位:西北工业大学,西南交通大学(成都市金牛区二环路北一段111号物理学院15号信箱)
摘    要:利用基于第一性原理密度泛函理论框架下的平面波超软赝势法,研究了含氧空位立方HfO2的几何结构、电子结构和光学性质。计算结果表明,氧空位缺陷对晶格参数的影响不明显。能带结构和态密度结果表明在-0.216 eV处出现了氧空位缺陷能级。通过对比纯立方HfO2的光学吸收边,由于氧空位缺陷能级的出现,含氧空位立方HfO2的光学吸收边向低能方向移动。此外,氧空位的出现导致了静态介电常数的增加。

关 键 词:电子结构  氧空位 光学性质  密度泛函理论
收稿时间:2016-10-27
修稿时间:2017-02-07

First-principles study of electronic and optical properties of cubic HfO2 with oxygen vacancy
Yan Feng,and. First-principles study of electronic and optical properties of cubic HfO2 with oxygen vacancy[J]. Science Technology and Engineering, 2017, 17(16)
Authors:Yan Feng  and
Affiliation:China Electronics Technology Group Corporation,,
Abstract:
Keywords:electronic structure oxygen vacancy optical properties density functional theory
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