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| 磷化铟表面介质膜的等离子体生长 | |
| 作者姓名： | 唐厚舜 余夕同 张冠生 李川 高惠民 陈光梦 |
| 摘 要： | 本文借助于等离子体辉光放电,采用(1)使InP表面自体氧化;(2)溅射淀积SiO_2;(3)在InP表面上蒸铝膜再氧化等工艺,获得三种介质膜.以下将这三种膜依次简称为膜1、膜2、膜3. 1.实验简述等离子体由GP-B高频感应加热设备产生.自体氧化和铝膜氧化的装置与以前介 |
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