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PECVD氮化硅膜的制备及其红外光谱分析
引用本文:李京娜.PECVD氮化硅膜的制备及其红外光谱分析[J].烟台师范学院学报(自然科学版),1999,15(4):270-272.
作者姓名:李京娜
摘    要:用等离子化学气相淀积法在Si基底上制备氮化硅薄膜,通过红外吸收光谱研究分析了薄膜中的成分及键结构。

关 键 词:氮化硅薄膜  PECVD法  红外光谱  制备
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