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Cu底层对SmCo薄膜磁性能的影响
引用本文:张峰,黄致新,胡曾,崔增丽,董凯峰,杨晓非. Cu底层对SmCo薄膜磁性能的影响[J]. 华中师范大学学报(自然科学版), 2007, 41(4): 543-545
作者姓名:张峰  黄致新  胡曾  崔增丽  董凯峰  杨晓非
作者单位:华中师范大学,物理科学与技术学院,武汉,430079;华中科技大学,电子科学与技术系,武汉,430074
基金项目:国家自然科学基金 , 湖北省自然科学基金
摘    要:通过多靶射频磁控溅射系统在玻璃基片上制备了SmCo/Cu磁性薄膜.采用控制变量法优化了磁性层溅射工艺参数,制备出了矫顽力高达2400 Oe的溅射态SmCo面内磁化膜;通过控制溅射Cu底层时的基片温度,薄膜磁化方向有从面内向垂直方向转变的趋势,并制备出矫顽力达到6215 Oe的垂直面内方向的SmCo/Cu薄膜;利用扫描隧道显微镜(STM)分析SmCo薄膜在不同温度下的表面形貌发现,150℃时薄膜的晶粒尺寸较小有利于改善薄膜磁性能.

关 键 词:Cu底层  磁控溅射  SmCo薄膜  矫顽力
文章编号:1000-1190(2007)04-0543-03
收稿时间:2007-04-21
修稿时间:2007-04-21

Effect of Cu underlayer on magnetic properties of SmCo thin films
ZHANG Feng,HUANG Zhixin,HU Zeng,CUI Zengli,DONG Kaifeng,YANG Xiaofei. Effect of Cu underlayer on magnetic properties of SmCo thin films[J]. Journal of Central China Normal University(Natural Sciences), 2007, 41(4): 543-545
Authors:ZHANG Feng  HUANG Zhixin  HU Zeng  CUI Zengli  DONG Kaifeng  YANG Xiaofei
Abstract:
Keywords:Cu underlayer   magnetron sputtering   SmCo thin film   coercivity
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