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| TiAl的氢化物脆和滞后断裂机理 | |
| 引用本文： | 高克玮,王燕斌,乔利杰,褚武扬.TiAl的氢化物脆和滞后断裂机理[J].中国科学(E辑),1999,29(4):289-297. |
| 作者姓名： | 高克玮 王燕斌 乔利杰 褚武扬 |
| 作者单位： | 北京科技大学材料物理系!北京100083 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目!(批准号:5 98951507，598911801，5972514) |
| 摘 要： | Ｔｉ５０Ａｌ存在两类氢脆，即氢化物引起的脆性以及原子氢引起的滞后断裂。室温时ＴｉＡｌ中的氢全部变为氢化物，当氢浓度较低时为（ＴｉＡｌ）Ｈｘ；当氢浓度很高时将生成多种氢化物。随氢化物含量升高，ＫＩＣ下降，即显示氧化物脆。表面镀Ｎｉ－Ｐ避免阴极腐蚀后预充氢使氢化物饱和，然后加载充氢，进入的原子氢通过扩散，富集后能导致滞后断裂。 |
| 关 键 词： | TiAl 氢致滞后开裂 钛合金 氢化物脆 |
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