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| 纳米时代的源漏Pn结技术 | |
| 摘 要： | 第4届结技术国际研讨会(The 4th International Workshop on Junction Technology：IWJT-2004)于2004年3月15～16日在上海举行。本届会议(IWJT-2004)，由中国电子学会和日本应用物理学会硅技术分会主办，在国家自然科学基金委、上海市科学技术委员会以及复旦大学微电子研究院等的支持下，由复旦大学负责筹办，首次在中国上海召开。随着CMOS器件进入纳米时代， |
| 关 键 词： | 纳米时代 International Technology Pn结 Workshop 国家自然科学基金 2004年3月 中国电子学会 CMOS器件 复旦大学 国际研讨会 技术委员会 物理学会 第4届 硅技术 研究院 微电子 上海市 |
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