| 光学元件气囊抛光去除效率影响因素研究 |
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| 引用本文： | 姜涛,郭隐彪,王詹帅,林桂丹.光学元件气囊抛光去除效率影响因素研究[J].华中科技大学学报(自然科学版),2015(1):12-15. |
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| 作者姓名： | 姜涛 郭隐彪 王詹帅 林桂丹 |
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| 作者单位： | 厦门大学机电工程系,福建厦门,361005 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(51275433);国家科技重大专项资助项目(2013ZX04006011-206);中国工程物理研究院超精密加工技术重点实验室开放基金资助项目(KF13011) |
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| 摘 要： | 基于Preston方程分析了气囊抛光特性,确定去除函数的三个重要特征,即抛光斑尺寸、形状以及去除量,得到影响光学元件气囊抛光材料去除效率的主要参数.通过定点抛光实验,分析气囊充气压强、压缩量、主轴转速对BK7光学元件去除函数和材料去除效率的影响.结果表明:充气压强与压缩量对于气囊抛光去除函数的形状影响较大,去除效率随气囊充气压强增大先升高到2.08mm3/min后逐渐降低然后又升高,压缩量与气囊转速的提高增大了材料的去除效率,分别可以达到6.84mm3/min和5.04mm3/min.
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| 关 键 词： | 气囊抛光 去除效率 工艺参数 去除函数 抛光斑尺寸 |
Research on influences of removal rate for optical component in bonnet polishing |
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| Jiang Tao
,
Guo Yinbiao
,
Wang Zhanshuai
,
Lin Guidan.Research on influences of removal rate for optical component in bonnet polishing[J].JOURNAL OF HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY.NATURE SCIENCE,2015(1):12-15. |
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| Authors: | Jiang Tao Guo Yinbiao Wang Zhanshuai Lin Guidan |
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| Institution: | Jiang Tao;Guo Yinbiao;Wang Zhanshuai;Lin Guidan;Department of Mechanical and Electrical Engineering,Xiamen University; |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | bonnet polishing material removal rate processing parameter influence function polis-hing spo t size |
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