离子溅射TiC薄膜的深度分析和表面碳偏析 |
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作者姓名: | 朱勇 |
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作者单位: | 中国科学院固体物理研究所,中国科学院固体物理研究所,中国科学院固体物理研究所 合肥 230031,合肥 230031 中南工业大学测试中心,合肥 230031 |
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摘 要: | 离子溅射制膜是近年来发展起来的一种新技术。由于所获得的溅射层有许多优点,在防腐、耐磨、装饰和制备新材料等方面得到了越来越广泛的应用,对薄膜本身的研究也日趋活跃。本文用AES研究了铜箔上TiC溅射膜升温过程中的表面成分的偏析和深度方向成分的变化。升温过程中出现碳偏析现象,可能影响薄膜的摩擦学性能。
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关 键 词: | 离子溅射 TiC 薄膜 表面碳偏析 |
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