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衬底温度对电子束沉积LaF3薄膜表面形貌的影响
作者姓名:
宋连科
郝殿中
韩培高
摘 要:
采用电子束沉积的方法,分别在K9玻璃基片上制备了LaF3单层膜.研究了衬底温度对LaF3薄膜表面形貌的影响;衬底温度从200℃上升到350℃,间隔为50℃.利用原子力显微镜测量了基板镀膜后的粗糙度变化;分析结果表明:在本实验条件下,随衬底温度的升高,均方根粗糙度先增大后减小,达到一定温度后,粗糙度迅速增大.
关 键 词:
光学薄膜
衬底温度
均方根粗糙度
电子束沉积
LaF3
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