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测量InGaAsP/InP异质界面的化学斜面法
引用本文:卢革宇,王贤仁,苗忠礼,关一民,程强.测量InGaAsP/InP异质界面的化学斜面法[J].吉林大学学报(理学版),1993(4).
作者姓名:卢革宇  王贤仁  苗忠礼  关一民  程强
作者单位:吉林大学电子工程系,吉林大学电子工程系,吉林大学电子工程系,吉林大学电子工程系,吉林大学电子工程系 长春 130023,长春 130023,长春 130023,长春 130023,长春 130023
摘    要:本文利用AES(俄歇电子能谱)测量了InGaAsP/InP异质界面的组分分布和界面宽度,提出了化学斜面法测量界面宽度的新方法.同时讨论了晶格失配对界面宽度的影响.

关 键 词:俄歇电子能谱  化学斜面法  界面  异质结  磷化铟

Chemical Bevel Method for Measuring the Interfaceof InGaAsP/InP
Lu Geyu,Wang Xianren,Miao Zhongli,Guan Yimin,Cheng Qiang.Chemical Bevel Method for Measuring the Interfaceof InGaAsP/InP[J].Journal of Jilin University: Sci Ed,1993(4).
Authors:Lu Geyu  Wang Xianren  Miao Zhongli  Guan Yimin  Cheng Qiang
Abstract:The present paper covers the measurement of interface width of InGaAsP/InP. AES chemical bevel, a new method of measuring interface width, has been described. The method improves the precision of the measurement. The effect of lattice mismatch between the quar-ternary layer and the substrate has been also discussed.
Keywords:AES  chemical bevel method  interface  measurement  InP
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