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| 用高能量密度等离子体在室温下制备氮化钛薄膜 | |
| 作者姓名： | 闫鹏勋 |
| 作者单位： | 中国科学院物理研究所 北京100080(闫鹏勋，杨思泽，李兵)，中国科学院物理研究所 北京100080(陈熙琛) |
| 基金项目： | 国家自然科学基金，中关村联合测试基金资助项目 |
| 摘 要： | 氮化钛薄膜具有很多优异的性质,如高硬度,耐磨性,耐腐蚀性以及漂亮的金黄色.它是唯一在工业上被广泛运用的镀膜材料.然而目前主要沉积氮化钛膜的技术,如化学气相沉积(CVD),物理气相沉积(PVD)和近几年发展起来的离子束技术(IBM,IBAD)都有其自身难以克服的缺点,它们限制了氮化钛薄膜沉积技术的应用范围.这些缺点是:反应温度太高,镀膜与基底结合不牢,以及沉积速率太低. |
| 关 键 词： | 等离子体 氮化钛 薄膜 轴承钢 制备 |
| 收稿时间： | 1994-01-11 |
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