| 浮动块研磨抛光机研磨磁头的表面去除分析 |
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| 引用本文： | 申儒林,吴任和,钟掘.浮动块研磨抛光机研磨磁头的表面去除分析[J].中南大学学报(自然科学版),2005,36(6):1021-1025. |
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| 作者姓名： | 申儒林 吴任和 钟掘 |
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| 作者单位： | 中南大学,机电工程学院,湖南,长沙,410083 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目（50390061） |
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| 摘 要： | 对浮动块研磨抛光机的运动学方程进行研究结果表明: 研磨时, 任意磁头上任意一点的运动轨迹是周期性的, 这种运动周期的重复性与工作圆环的角速度ω2和研磨盘的角速度ω1之比有关;当浮动块研磨抛光机在理想状态工作下时, ω1=ω2, 此时, 任意磁头上任意一点移动的路程相等, 表明磁头表面去除率相同, 但其轨迹的重复性太强. 在实际工作中, 磁头表面能取得均化的研磨条纹, 而整个研磨平面的平整精度却不一定很高;任意一点在每周期移动的路程长度与角速度ω和偏心距e有关, ω和e越大, 周期路程越长. 而周期路程较短, 表明轨迹的方向改变愈频繁, 有利于获得愈好的表面质量, 只是去除率降低. 因此, 粗研磨时, 宜取较高的转速以提高效率;而精研磨时, 宜取较低的转速以提高表面质量.
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| 关 键 词： | 磁头 研磨 抛光 去除率 |
| 文章编号： | 1672-7207(2005)06-1021-05 |
| 收稿时间： | 2005-04-01 |
| 修稿时间： | 2005年4月1日 |
Analysis of magnetic head surface removal by float-piece polisher |
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| SHEN Ru-lin,WU Ren-he,ZHONG Jue.Analysis of magnetic head surface removal by float-piece polisher[J].Journal of Central South University:Science and Technology,2005,36(6):1021-1025. |
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| Authors: | SHEN Ru-lin WU Ren-he ZHONG Jue |
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| Institution: | School of Mechanical and Electrical Engineering, Central South University, Changsha 410083, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnetic head lapping polishing removal rate |
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