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NiO/γ-Al_2O_3体系分散态研究
引用本文:林承志.NiO/γ-Al_2O_3体系分散态研究[J].沈阳师范大学学报(自然科学版),1999(2).
作者姓名:林承志
作者单位:沈阳师范学院化学系
摘    要:对不同温度下焙烧的NiO/γ-Al2O3体系的XRD研究表明,NiO在γ-Al2O3表面分散阈值随温度升高而增加.在低于550℃时,呈单层分散状态,而在较高温度时(700℃以上),有一定量的NiO进入体相,此时NiO/γ-Al2O3体系为NiO晶相、分散相和体相三相混合体

关 键 词:单层分散  X射线衍射  NiO  γ-Al_2O_3
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