NiO/γ-Al_2O_3体系分散态研究 |
| |
引用本文: | 林承志.NiO/γ-Al_2O_3体系分散态研究[J].沈阳师范大学学报(自然科学版),1999(2). |
| |
作者姓名: | 林承志 |
| |
作者单位: | 沈阳师范学院化学系 |
| |
摘 要: | 对不同温度下焙烧的NiO/γ-Al2O3体系的XRD研究表明,NiO在γ-Al2O3表面分散阈值随温度升高而增加.在低于550℃时,呈单层分散状态,而在较高温度时(700℃以上),有一定量的NiO进入体相,此时NiO/γ-Al2O3体系为NiO晶相、分散相和体相三相混合体
|
关 键 词: | 单层分散 X射线衍射 NiO γ-Al_2O_3 |
本文献已被 CNKI 等数据库收录! |
|