| 一种新型的193 nm光致抗蚀剂用光产酸剂的性质分析 |
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| 引用本文： | 王文君,王力元.一种新型的193 nm光致抗蚀剂用光产酸剂的性质分析[J].黑龙江大学自然科学学报,2007,24(1):136-140. |
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| 作者姓名： | 王文君 王力元 |
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| 作者单位： | 1. 中国环境管理干部学院,环境科学系,河北,秦皇岛,066004
2. 北京师范大学,化学系,北京,100875 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划) |
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| 摘 要： | 合成了几种N-羟基马来海松酸酰亚胺磺酸酯,它们在常用的溶剂中有良好的溶解性,且具有良好的热稳定性。以聚乙二醇做成膜树脂,测定了这些化合物在膜层中的紫外吸收强度,表明它们在193nm处具有适当的吸收和良好的透明性。以254nm低压汞灯作曝光光源,研究了这些化合物的光解性质和成像性质。
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| 关 键 词： | 193nm光致抗蚀剂 光产酸剂 N-羟基马来海松酸酰亚胺磺酸酯 紫外吸收 |
| 文章编号： | 1001-7011(2007)01-0136-05 |
| 修稿时间： | 2006年5月30日 |
The properties of a new photoacid generator (PAG) for 193 nm photoresist |
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| WANG Wen-jiun,WANG Li-yuan.The properties of a new photoacid generator (PAG) for 193 nm photoresist[J].Journal of Natural Science of Heilongjiang University,2007,24(1):136-140. |
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| Authors: | WANG Wen-jiun WANG Li-yuan |
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| Abstract: | A few kinds of N-hydroxy maleopimarimide sulfonate derivatives were synthesized. These compounds have high solubility in commonly used solvents and high thermal stability. The UV absorption properties of these compounds in polyethylene glycol film indicate that they have suitable absorption and transparency at 193 nm wavelength. The photolysis and lithography of these compounds under radiation of low pressure Hg lamp were studied. |
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| Keywords: | 193 nm photoresist PAG sulfonate N-hydroxy maleopimarimide UV absorption |
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