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| 磁盘表面质量及磁头力学特性的声发射研究 | |
| 作者姓名： | 张鸿天 方光旦 |
| 作者单位： | 中国科学院金属研究所(张鸿天，柏森)，中国科学院计算技术研究所(方光旦) |
| 摘 要： | 存贮位密度是磁盘的主要性能指标之一.由经典公式知道,位密度D满足下面关系:1/D～((a h)~2 (g/2)~2)~(1/2)式中a和g分别由磁层的特性和磁头的结构所决定.因此,提高磁盘存贮的位密度,降低磁头的浮动高度h是重要手段之一.事实上,经严格抛光处理的磁盘表面,仍存在着妨碍磁头浮动高度降低的小突起.它们非常细小,以至用常规方法很难检测.有人曾研究用声发射方法进行检测. |
| 关 键 词： | 磁盘 磁头 声发射 力学特性 |
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