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| 消失场荧光测量的理论和应用研究 | |
| 作者姓名： | 袁一方 |
| 作者单位： | 华东工业大学 |
| 摘 要： | 消失场荧光技术已被广泛应用在工业、生物和医学等领域的研究工作中．本文给出各种分层结构中消失场分布的严密电磁理论．在生物和医学上,利用受激荧光强度正比于局部电场能量的规律,可根据测得的相对荧光强度算出细胞和基板的间距．文中还给出一些消失场荧光测量的应用． |
| 关 键 词： | 荧光测量 消失场 电磁场理论 |
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