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开口WS2纳米管的制备与表征
引用本文:陈军,陶占良,李锁龙,蔡锋石,徐丽娜. 开口WS2纳米管的制备与表征[J]. 复旦学报(自然科学版), 2003, 42(3): 262-265
作者姓名:陈军  陶占良  李锁龙  蔡锋石  徐丽娜
作者单位:南开大学,新能源材料化学研究所,天津,300071
基金项目:教育部跨世纪优秀人才培养计划基金资助项目(2002-48);留学回国人员科研启动基金资助项目(2002-247)
摘    要:在氢气与噻吩的催化还原气氛中,于400℃加热分解高能球磨后的前驱体(NH4)2WS4.用粉末X射线衍射(XRD),扫描电子显微镜(SEM),高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和N2吸附比表面测定(BET)对反应产物进行了分析表征.结果表明反应产物是高纯度多壁的开口WS2纳米管,其平均长度为5μm,内径约为15nm,外径约为30nm,层间距为0.62nm.对于反应过程,提出了WS2纳米管“由内向外”的生长机理.

关 键 词:二硫化钨 纳米管 制备 表征
文章编号:0427-7104(2003)03-0262-04

Preparation and Characterization of Open-ended WS2 Nanotubes
Abstract:
Keywords:WS_2  Nanotubes  preparation  characterization
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