| 关于XRD计算镀层织构公式的辨析 |
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| 引用本文： | 王森林,洪亮亮.关于XRD计算镀层织构公式的辨析[J].华侨大学学报(自然科学版),2008,29(3). |
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| 作者姓名： | 王森林 洪亮亮 |
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| 作者单位： | 华侨大学,材料科学与工程学院,福建,泉州,362021 |
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| 基金项目： | 福建省自然科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 通过分析电沉积金属镀层的织构,探讨3种常见的织构公式的应用.分析表明,织构式Mhkl=(Ihkl)/(ΣIh′k′l′)]/(I0hkl)/(ΣI0h′k′l′)] 采用峰加和的办法是其无法解决的缺陷,因此不宜采用;而式TC=(Ihkl)/(I0hkl)]/((1)/(n))Σ((Ihkl)/(I0hkl))]在研究单相镀层织构不但可以研究织构变化趋势,还可以半定量地估算镀层是否实现择优;而计算多相物质的织构采用织构式p=(R)/(R0), R=(I(θ1))/(I(θ2)) 则较为简便.最后,通过实例进行验证.
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| 关 键 词： | 织构公式 择优取向 X射线衍射 镀层 |
The Differentiation About the Formulae of Texture of Electroplating Deposit by Using XRD |
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| WANG Shen-lin,HONG Liang-liang.The Differentiation About the Formulae of Texture of Electroplating Deposit by Using XRD[J].Journal of Huaqiao University(Natural Science),2008,29(3). |
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| Authors: | WANG Shen-lin HONG Liang-liang |
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