| 双靶反应溅射Ti-B-N复合膜的研制 |
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| 引用本文： | 李戈扬,王公耀,吴亮,李鹏兴,张流强,郑永铭. 双靶反应溅射Ti-B-N复合膜的研制[J]. 上海交通大学学报, 1997, 31(4): 108-113 |
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| 作者姓名： | 李戈扬 王公耀 吴亮 李鹏兴 张流强 郑永铭 |
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| 作者单位： | 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室，中国工程物理研究院 |
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| 基金项目： | 中国工程物理研究院基金,华东分析测试中心资助 |
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| 摘 要： | 采用基片架旋转的多靶磁控溅射仪，通过六方氮化硼（ｈ－ＢＮ）和Ｔｉ靶反应溅射制备Ｔｉ－Ｂ－Ｎ复合薄膜，并用ＡＥＳ、ＸＲＤ和ＴＥＭ等方法研究了薄膜的微结构．结果表明，室温下沉积薄膜均呈非晶态，经过４００°Ｃ热处理薄膜晶化．基片加热为４００°Ｃ沉积的薄膜则已晶化，ＴＥＭ分析确定薄膜结构为ＴｉＮ结构．显微硬度表征发现，室温沉积Ｔｉ与ｈ－ＢＮ的原子数约为２∶１时的薄膜达到最高硬度ＨＫ２６００．
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| 关 键 词： | Ti－B－N复合膜；磁控溅射；双靶反应溅射 |
Ti B N Composite Film Synthesized by Bi Targets Sputtering |
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| Li Geyang Wang Gongyao Wu Liang Li Pengxing. Ti B N Composite Film Synthesized by Bi Targets Sputtering[J]. Journal of Shanghai Jiaotong University, 1997, 31(4): 108-113 |
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| Authors: | Li Geyang Wang Gongyao Wu Liang Li Pengxing |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Ti B N composite film magnetron sputtering bi targets reactive sputtering |
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