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医用加速器270°偏转系统中边缘场对电子轨迹的影响
引用本文:吴频,李泉凤.医用加速器270°偏转系统中边缘场对电子轨迹的影响[J].清华大学学报(自然科学版),2000,40(10):24-27.
作者姓名:吴频  李泉凤
作者单位:清华大学,工程物理系,北京,100084
基金项目:国家“九五”科技攻关项目!(96 - 90 5 - 0 1- 0 3)
摘    要:针对在高能医用驻波直线加速器 2 70°偏转磁铁系统的理论设计过程中 ,使用等效边界方法忽略了边缘场影响的问题 ,按照 EFF(Extended Fringing Field)理论计算所得结果重新校正原来设计的电子轨迹 ,并采用粒子跟踪的模拟方法 ,模拟电子在 2 70°偏转系统中的偏转过程 ,将模拟结果与 EFF理论计算结果进行比较 ,分析指出在 2 70°偏转磁铁系统中加磁屏蔽的意义 ,从而从理论上指导 2 70°偏转磁铁系统的安装 ,即将靶从原安装位置处向左调整 5 mm。

关 键 词:边缘场  270°偏转磁铁  EFF计算  粒子跟踪  屏蔽
修稿时间:1999-12-07
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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