| NiCrAlY涂层/TC4基体界面反应机理 |
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| 引用本文： | 夏长清,李佳,古一,彭小敏,武文花. NiCrAlY涂层/TC4基体界面反应机理[J]. 中南大学学报(自然科学版), 2005, 36(4): 550-554 |
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| 作者姓名： | 夏长清 李佳 古一 彭小敏 武文花 |
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| 作者单位： | 中南大学,材料科学与工程学院,湖南,长沙,410083 |
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| 摘 要： | 采用电弧离子镀技术在TC4(Ti6Al4V)合金基体表面沉积制备NiCrAlY涂层.通过扫描电镜与能谱分析、X射线衍射分析及显微硬度测试,研究真空热处理对NiCrAlY涂层组织性能的影响;分析界面反应产物的形成过程;讨论Cr元素在界面反应中的作用机制.研究结果表明:真空热处理后NiCrAlY涂层中有γ'-Ni3Al相析出,提高了涂层的表面硬度;在870℃以下热处理,NiCrAlY涂层/TC4基体界面反应产物的出现顺序依次为:相变影响区→Ni3(Al,Ti)和Ti2Ni化合物层→TiNi化合层;Cr元素在870℃以上开始扩散并参与界面反应,形成TiCr2化合物.
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| 关 键 词： | NiCrAlY涂层 TC4合金 真空热处理 界面反应 显微组织 |
| 文章编号： | 1672-7207(2005)04-0550-05 |
| 收稿时间： | 2004-10-18 |
| 修稿时间： | 2004-10-18 |
Interaction behavior between NiCrAlY coating and TC4 alloy substrate |
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| XIA Chang-qing,LI Jia,GU Yi,PENG Xiao-min,WU Wen-hua. Interaction behavior between NiCrAlY coating and TC4 alloy substrate[J]. Journal of Central South University:Science and Technology, 2005, 36(4): 550-554 |
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| Authors: | XIA Chang-qing LI Jia GU Yi PENG Xiao-min WU Wen-hua |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | NiCrAlY coating TC4 alloy vacuum heat treatment interaction microstructure |
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