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金属等离子体浸没离子注入技术合成NbN膜
引用本文:宋教花,张涛,侯君达,邓志威. 金属等离子体浸没离子注入技术合成NbN膜[J]. 北京师范大学学报(自然科学版), 2000, 36(5): 623-625
作者姓名:宋教花  张涛  侯君达  邓志威
作者单位:北京师范大学低能核物理研究所,100875,北京
基金项目:国家高技术研究发展计划(863计划);;
摘    要:利用无大颗粒的金属等离子体浸没增强沉积技术 ,在Si基体上进行动态离子束增强沉积NbN ,在低温下制成了NbN薄膜 .薄膜表面细密光滑 ,退火前其硬度 >16 .8MN·mm- 2 ,退火后硬度 >16 .0MN·mm- 2 .

关 键 词:氮化铌  金属等离子体  动态离子束增强沉积
修稿时间:2000-01-13

SYNTHESIS OF NbN THIN FILM USING METAL PLASMA ION IMMERSION IMPLANTATION AND DEPOSITION
Song Jiaohua Zhang Tao Hou Junda Deng Zhiwei. SYNTHESIS OF NbN THIN FILM USING METAL PLASMA ION IMMERSION IMPLANTATION AND DEPOSITION[J]. Journal of Beijing Normal University(Natural Science), 2000, 36(5): 623-625
Authors:Song Jiaohua Zhang Tao Hou Junda Deng Zhiwei
Abstract:
Keywords:NbN  metal plasma  dynamic ion beam assisted deposition  
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