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| 氧化过程中杂质分凝行为的模拟 | |
| 引用本文： | 李惠军.氧化过程中杂质分凝行为的模拟[J].山东科学,1999,12(1):48-50. |
| 作者姓名： | 李惠军 |
| 摘 要： | 本文以ＰＭＯＳ结构为研究对象，对其绝缘栅栅氧化过程进行了计算机动态模拟。提出了抑制杂质分凝的栅氧化新模式。 |
| 关 键 词： | 微电子技术 MOS结构 绝缘栅 栅氧化 杂质分凝 |
| 本文献已被 维普 等数据库收录！ | |
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