涂层成份及结构的X射线光电子谱分析 |
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引用本文: | 马柳莺,刘华佾,赖永玲,刘国纯. 涂层成份及结构的X射线光电子谱分析[J]. 中南大学学报(自然科学版), 1994, 0(4) |
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作者姓名: | 马柳莺 刘华佾 赖永玲 刘国纯 |
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作者单位: | 中南工业大学材料科学与工程系 |
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基金项目: | 国家“八五”科技攻关计划基金 |
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摘 要: | 以硬质合金作为衬底,分别采用了化学涂层(CVD)和物理化学涂层(PCVD)的技术涂复Ti(C,N)-TiN硬质膜,应用X射线光电子谱分析(XPS)技术,研究涂层表面化学成分、元素化学状态、物相组成及其随深度的变化。涂层表面由Ti,N,C,O和Co组成;表面物相包括TiN,TiO_x及CoO.随着深度的增加,Ti:N迅速变为1,而TiO_x和CoO含量急剧减少.
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关 键 词: | 化学涂层;成分;相;物理化学涂层 |
XPS ANALYSES OF THE CHEMICAL INGREDIENT AND THE PHASE COMPOSITION OF THE COATINGS |
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