| 硅衬底CMOS射频集成电路中金属厚度对平面螺旋电感Q值的影响 |
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| 引用本文： | 陈雪芳,程东方,杨文荣.硅衬底CMOS射频集成电路中金属厚度对平面螺旋电感Q值的影响[J].上海大学学报(自然科学版),2005,11(5):455-459. |
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| 作者姓名： | 陈雪芳 程东方 杨文荣 |
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| 作者单位： | [1]上海大学理学院,上海200444 [2]上海大学微电子研究与开发中心,上海200072 |
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| 摘 要： | 该文着重分析金属线厚度对Q值的影响．为此设计了三组电感，它们的金属线厚度分别为5、10和20μm，并用Ansoft HFSS软件进行FEM（finite element method）的仿真．仿真的结果表明，金属线厚度对电感Q值的影响在很大程度上取决于电感内径的大小．因此当金属线厚度超过10μm时，通过进一步增加金属线厚度来改善Q值仍是可能的．
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| 关 键 词： | 平面螺旋电感 金属线厚度 串联电阻 Q值 RF集成电路 |
| 文章编号： | 1007-2861（2005）05-0455-05 |
| 收稿时间： | 2004-08-30 |
| 修稿时间： | 2004年8月30日 |
Effect of Metal Thickness on Quality Factor of Planar Spiral Inductors in Si-based CMOS RF ICs |
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| CHEN Xue-fang, CHENG Dong-fang , YANG Wen-rong.Effect of Metal Thickness on Quality Factor of Planar Spiral Inductors in Si-based CMOS RF ICs[J].Journal of Shanghai University(Natural Science),2005,11(5):455-459. |
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| Authors: | CHEN Xue-fang CHENG Dong-fang YANG Wen-rong |
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| Institution: | CHEN Xue-fang, CHENG Dong-fang , YANG Wen-rong (1. School of Sciences, Shanghai University, Shanghai 200444, China; 2. Microelectronic R |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | planar spiral inductor metal thickness series resistance Q value RF IC |
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