| 阴极微弧电沉积钇稳定氧化锆涂层 |
| |
| 作者姓名： | 杨晓战 何业东 王德仁 高唯 |
| |
| 作者单位： | 1. 北京科技大学,北京市腐蚀、磨蚀与表面技术重点实验室,北京,100083
2. School of Engineering, The University of Auckland |
| |
| 基金项目： | 本工作为国家自然科学基金项目（批准号:59971009）,并得到北京市腐蚀、磨蚀与表面技术重点实验室的资助. |
| |
| 摘 要： | 提出了一种新颖的阴极微弧电沉积技术（CMED）。利用该技术在FeCrAl 合金上制备出厚的钇稳定氧化锆（YSZ）涂层。研究结果表明,在试样上预先沉积YSZ薄膜，施加高压电脉冲时可以导致微弧放电；在微弧的作用下可以获得厚度达300μm具有晶态结构的YSZ涂层；高压电脉冲的电压值和频率决定了沉积涂层的厚度；电解液中添加硝酸钇时，发生ZrO2和Y2O3的共沉积，可使涂层中的t-ZrO2,t‘-ZrO2和c-ZrO2稳定到室温；提高电解液中Y（NO3）3的含量可以降低涂层中m-ZrO2的相对含量，研究了阴极微孤电沉积YSZ涂层的微观结构，分析了阴极微弧电沉积的基本过程及机理。
|
| 关 键 词： | 氧化物涂层 钇稳定氧化锆 陶瓷涂层 阴极微弧电沉积 |
| 收稿时间： | 2001-11-12 |
| 修稿时间： | 2001-11-12 |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《科学通报》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《科学通报》下载全文 |
|
