| 基于环形磁场励磁的两面磁力抛光试验研究 |
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| 引用本文： | 阮日新,罗 虎,王永强,陈逢军,胡 天,尹韶辉.基于环形磁场励磁的两面磁力抛光试验研究[J].湖南大学学报(自然科学版),2016,43(4):31-37. |
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| 作者姓名： | 阮日新 罗 虎 王永强 陈逢军 胡 天 尹韶辉 |
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| 作者单位： | (1.湖南大学 国家高效磨削工程技术研究中心，湖南 长沙 410082;2.长沙纳美特超精密制造技术有限公司，湖南 长沙 410082 ) |
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| 摘 要： | 磁力抛光多数以单面抛光为主,较少有双面同时有效抛光方式.本文提出了基于环形磁场励磁的磁力抛光新工艺,该方法可以同时有效抛光两个表面.通过设计能励磁环形磁场的电磁铁,并进行三维有限元仿真分析,搭建了环形磁场双面抛光装置.利用该平台进行不锈钢两面抛光工艺试验研究,探讨了电流强度、磁极与工件间间隙、主轴转速和抛光时间工艺等参数对表面粗糙度R_a的影响.得出表面粗糙度R_a随着抛光时间、工作间隙、工件转速的增大而减小.设计正交实验方案得出合理的两面磁力抛光工艺参数,并最终取得了具有良好表面粗糙度R_a的两面工件样品.试验证明,该方法可以同时对工件的两个表面进行抛光,两个表面的表面粗糙度R_a由最初0.2μm下降到R_a(S)=0.094μm和R_a(N)=0.068μm.
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| 关 键 词： | 磁力研磨 环形磁场 两面抛光 磁场仿真 |
Experimental Study on Double-surface Magnetic Abrasive Polishing Excited by Toroidal Magnetic Field |
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| RUAN Ri-xing,LUO Hu,WANG Yong-qiang,CHENG Feng-jun,HU Tian,YIN Shao-hui.Experimental Study on Double-surface Magnetic Abrasive Polishing Excited by Toroidal Magnetic Field[J].Journal of Hunan University(Naturnal Science),2016,43(4):31-37. |
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| Authors: | RUAN Ri-xing LUO Hu WANG Yong-qiang CHENG Feng-jun HU Tian YIN Shao-hui |
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| Institution: | (1.National Engineering Research Center for High Efficiency Grinding,Hunan Univ,Changsha,Hunan 410082,China;2.Changsha Nameite Ultra Precision Manufacturing Technology Company,Changsha,Hunan 410082,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnetic abrasive finishing toroidal magnetic field double-surface polishing magnetic simulation |
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