| 射频磁控溅射法制备TiO2-x薄膜及其光响应的研究 |
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| 引用本文： | 陈朝凤,黄东升,李玉花,曾人杰. 射频磁控溅射法制备TiO2-x薄膜及其光响应的研究[J]. 厦门大学学报(自然科学版), 2007, 46(4): 525-528 |
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| 作者姓名： | 陈朝凤 黄东升 李玉花 曾人杰 |
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| 作者单位： | 厦门大学化学化工学院材料科学与工程系,福建,厦门,361005 |
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| 摘 要： | 用射频反应磁控溅射法，250℃时在石英玻璃片上沉积TiO2-x薄膜，用XRD、SEM、XPS、UV-Vis等对其进行表征．结果表明：未经热处理的薄膜呈锐钛矿型，薄膜表面粗糙，粒径约为30nm的小晶粒聚集在一起，形成一个个“小层”，层层错叠；经600℃保温2h热处理的薄膜呈金红石型，晶粒较大，孔隙变大．XPS分析发现：未经热处理的薄膜表面存在着20％的三价钛，有与之相对应的较多的氧空位；经600℃在空气中热处理后，三价钛减少到8％，同时氧空位减少．UV-Vis吸收表明，氧空位的存在有利于TiO2-x的吸收边向可见光波段移动．
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| 关 键 词： | 氧空位 色心 光响应 溅射 |
| 文章编号： | 0438-0479（2007）04-0525-04 |
| 修稿时间： | 2006-11-17 |
TiO2-x Thin Film Prepared by RF Magnetron Sputtering and Its Effects on UV-Vis Absorption |
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| CHEN Chao-feng,HUANG Dong-sheng,LI Yu-hua,ZENG Ren-jie. TiO2-x Thin Film Prepared by RF Magnetron Sputtering and Its Effects on UV-Vis Absorption[J]. Journal of Xiamen University(Natural Science), 2007, 46(4): 525-528 |
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| Authors: | CHEN Chao-feng HUANG Dong-sheng LI Yu-hua ZENG Ren-jie |
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| Affiliation: | Department of Chemical and Biochemical Engineering,College of Chemistry and Chemical Engineering, Xiamen University, Xiamen 361005,China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | TiO2-x |
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