| 单晶铜表面划擦过程模拟 |
| |
| 引用本文： | 程东,胡理琳,严志军,严立. 单晶铜表面划擦过程模拟[J]. 应用科技, 2003, 30(10): 49-51 |
| |
| 作者姓名： | 程东 胡理琳 严志军 严立 |
| |
| 作者单位： | 1. 大连海事大学,轮机工程学院,辽宁,大连,116026
2. 青岛远洋船员学院,机电系,山东,青岛,266071 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(50071014) |
| |
| 摘 要： | 应用分子动力学模拟技术模拟刚性针尖在单晶铜表面的划擦过程，探讨在微观领域材料的摩擦磨损特性，为进一步探讨纳米摩擦模拟技术及微观领域材料特性奠定基础．模拟结果表明，在材料微观划擦机理中，针尖的摩擦阻力来自于基体表面位错的堆积，同时，位错在基体中的传播速度对摩擦阻力也有影响．
|
| 关 键 词： | 分子动力学模拟技术 单晶铜 摩擦阻力 磨损特性 划擦过程 位错 计算机模拟 |
| 文章编号： | 1009-671X(2003)10-0049-03 |
| 修稿时间： | 2002-11-25 |
Molecular dynamics simulations of nano-scale scratch |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | molecular dynamic simulation nano-scale sliding friction many-body potential |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
